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    不同電解液中鎂合金微弧氧化膜生長過程及腐蝕防護性能
    作者:劉思勤1 2 齊玉明1 2 彭振軍1 梁軍1 2 
    單位:1. 中國科學院蘭州化學物理研究所 固體潤滑國家重點實驗室 蘭州 730000  2. 材料與光電研究中心 中國科學院大學 北京 100049 
    關鍵詞:鎂合金 微弧氧化 電解液體系 生長特點 腐蝕防護性能 
    分類號:
    出版年,卷(期):頁碼:2021,49(6):1213-1221
    DOI:
    摘要:

     AZ31鎂合金在3種電解液(NaAlO2Na2SiO3Na3PO4)中進行微弧氧化處理,采用掃描電子顯微鏡和X射線能譜儀分析了不同電解液體系下微弧氧化膜的表面和截面形貌及其元素分布情況,采用X射線衍射分析了微弧氧化膜生長過程中物相組成的變化情況,利用電動位極化、電化學阻抗和析氫測試比較了不同電解液體系中制備的相同厚度(~15 mm)氧化膜的腐蝕防護性能,并根據不同電解液體系中微弧氧化膜生長過程特點,探討了氧化膜腐蝕防護性能差異的原因。結果表明:在鋁酸鹽中生長主要以陰離子化合物沉積為主,氧化膜傾向于向外生長,而在硅酸鹽和磷酸鹽中,這2種膜層的生長很大一部分來自于基體的氧化,導致其向內生長都占據了主要地位,不同的生長方式導致膜層對基體的腐蝕防護性能不同(AZ31-S> AZ31-P>>AZ31-Al)

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